專利創新設計之雙軸驅動奈米分散機可獨立驅動研磨分散軸及研磨介質分離器,克服傳統奈米分散機無法在高黏度下順利運作之缺點,更可將以往需兩階段粗、細研磨分散程序簡化為一段式研磨分散製程,大幅提升生產效率。
★ 專利創新設計雙軸獨立驅動研磨軸及分離器 ★ 全研磨室採用高硬度及高導熱陶瓷研磨元件 ★ 圖形化人機界面儲存讀取配方參數製程紀錄 ★ 人體工學優化設計操作安全省力易清潔保養 ★ 研磨介質使用範圍(7~1000微米) ★ 奈米分散液黏度操作範圍(up to 1000 cps)