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創新設計之奈米研磨分散機及技術,可克服傳統研磨分散機之缺點。
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Nanotrac wave 粒徑、界面電位及分子量分析儀 首頁 > 產品服務 > 奈米粒徑分析儀
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奈米粒徑測量—最新動態光背散射技術
隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經典動態光散射技術的自相關檢測(PCS )變得更加不確定。

40多年來,Microtrac公司一直致力於激光散射技術在顆粒粒徑測量中的應用。作為行業的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器UPA(Ultrafine Particle Analyzer)研發成功,首次引入由於顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產生頻率變化的能譜概念,快速準確地得到被測體系的奈米粒徑分佈。
Nanotrac wave 粒徑、界面電位及分子量分析儀

2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(Heterodyne Doppler Frequency Shifts)技術,結合動態光散射理論和先進的數學處理模型,將分析範圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可高達百分之四十,基本實現樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術採用可控參考穩定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,較之於傳統的自相關技術,信號強度高出幾個數量級。另外,新型"Y"型梯度光纖探針的使用,實現了對樣品的直接測量,極大的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。

特性
  ★ 採用最新的動態光散射技術,引入能普概念代替傳統光子相關光譜法。
★ 專利的異相多譜勒頻移技術,較之傳統的方法,獲得光信號強度高出幾個數量級,提高分析結果的可靠性。
★ 專利的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產生的能譜,確保分析的靈敏度。
★ 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計,減少了多重散射現象的干擾,保證高濃度溶液中奈米顆粒測試的準確性。
★ 專利的快速傅利葉變換算法(FFT,Fast Fourier Transform Algorithm Method),迅速處理檢測系統獲得的能譜,縮短分析時間。
★ 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

規格
 
粒徑分析範圍 0.8nm-6.5µm
重現性 誤差≤1%
濃度範圍 ppb-40%
檢測角度 180°
分析時間 30-120秒
準確性 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子
測量精度 無需預選,依據實際測量結果,自動生成單峰/多峰分佈結果
理論設計溫度 0-90℃,可以進行程序升溫或降溫
兼容性 兼容任何有機溶劑及大多數酸性或鹼性溶液
測量原理 粒徑測量:動態光背散射技術和全量程米氏理論處理
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
專利技術:膜電極,微電場電勢測量,"Y"型光纖探針設計,異相多普勒頻移,可控參比方 法,快速傅立葉轉換算法,非球形顆粒校正因子
光學系統 3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用矽光二極管接受背散射光信號,無需校正光路
軟件系統 先進的Microtrac FLEX軟件提供強大的數據處理能力,包括圖形,數據輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數據,Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數量,面積及光強分佈,包括積分/微分百分比和其他分析統計數據。數據的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和指定授權等。
外部環境 電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz
環境要求:溫度,10-40°C
相對濕度:小於95%
配置 有內置和外置光纖測量探頭可選
 
 
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